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同轴双导管技术在后循环颅内支架植入术的应用

发表时间:2010-09-17  浏览次数:512次

引 用:

关 键 词:

后循环;动脉;狭窄;支架成形术

作者:

席刚明1,王 伟

作者单位:

出版年份:

0

期刊页数:

收录者:

知网,万方

摘要:

目的:后循环颅内段动脉管径细、行程长、弯曲多,支架植入过程中阻力大,手术难以成功。探索采用同轴双导管技术,以增加后循环支架输送过程支撑力,提高后循环手术成功率。方法:21例经DSA、MRA或CTA检查确诊为后循环颅内段狭窄(狭窄程度大于70%)患者行脑血管支架植入术,先用单导管技术进行支架输送,失败后改用同轴双导管技术,单导管技术成功者为对照组,双导管技术成功者为治疗组。结果:同轴双导管支架到位良好,成功率达93.33%;单导管支架通过率为28.57%(P

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